Vakuumkammer (IMAGE)
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Speziell für das Experiment angefertigte Vakuumkammer: Der runde Wafer – an der linken Seite senkrecht auf einer Kupferoberfläche montiert – ist mit Platin beschichtet und wurde auf -173 °C (100 Kelvin) abgekühlt. Die dünne Stahldüse in der Mitte, die direkt auf den Wafer gerichtet ist, setzte Wasserdampf frei, was zur Bildung von amorphem Eis auf dem Wafer führte. Dieses Eis wurde anschließend durch einen optischen Laser angeregt und mit Röntgenlicht untersucht, das durch das halbverschattete dunkle Loch an der Rückseite der Kammer einfiel.
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Foto/©: European XFEL
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